Controlling N and C-atom densities in N2/H2 and N2/CH4 microwave afterglows for selective TiO2 surface nitriding - Inria - Institut national de recherche en sciences et technologies du numérique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 2021

Controlling N and C-atom densities in N2/H2 and N2/CH4 microwave afterglows for selective TiO2 surface nitriding

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hal-03369907 , version 1 (21-11-2022)

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Paternité - Pas d'utilisation commerciale

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Citer

J.-P. Sarrette, André Ricard, Yunfei Wang, Yoon Sang Lee, Ansoon Kim, et al.. Controlling N and C-atom densities in N2/H2 and N2/CH4 microwave afterglows for selective TiO2 surface nitriding. Applied Surface Science, 2021, 540, pp.148348. ⟨10.1016/j.apsusc.2020.148348⟩. ⟨hal-03369907⟩
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