Article Dans Une Revue
Plasma Chemistry and Plasma Processing
Année : 2016
Karine Pistre : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03828151
Soumis le : mardi 25 octobre 2022-10:15:18
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:21
Citer
André Ricard, Jean-Philippe Sarrette, S.G. Oh, Y. K. Kim. Comparison of the Active Species in the RF and Microwave Flowing Discharges of N-2 and Ar-20 %N-2. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 2016, 36 (6), pp.1559-1570. ⟨10.1007/s11090-016-9739-9⟩. ⟨hal-03828151⟩
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