Micro-nanostructured plasmonic TiN layer produced using rapid thermal nitridation of a nanoimprinted TiO2 sol-gel - Inria - Institut national de recherche en sciences et technologies du numérique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Optical Materials Express Année : 2022

Micro-nanostructured plasmonic TiN layer produced using rapid thermal nitridation of a nanoimprinted TiO2 sol-gel

Nicolas Crespo-Monteiro
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  • PersonId : 1084375
Arnaud Valour
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Émilie Gamet
Valentin Gâté
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Colette Turbil
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Daniel Turover
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Stéphanie Reynaud
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Julien Joneau
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Yves Jourlin
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03784098 , version 1 (22-09-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03784098 , version 1

Citer

Nicolas Crespo-Monteiro, Arnaud Valour, Émilie Gamet, Maria Alejandra Usuga Higuita, Valentin Gâté, et al.. Micro-nanostructured plasmonic TiN layer produced using rapid thermal nitridation of a nanoimprinted TiO2 sol-gel. Optical Materials Express, 2022. ⟨hal-03784098⟩
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